Các thành phần hợp kim nặng vonfram (WHA) để cấy ion
Nói chung, vonfram và molypden là những vật liệu quan trọng cho các bộ phận được sử dụng trong hệ thống cấy ion, đặc biệt là trong đường truyền tia. Những vật liệu này được lựa chọn vì khả năng chịu được các điều kiện khắc nghiệt của quá trình cấy ion, bao gồm nhiệt độ cao, từ trường mạnh và các loại khí xử lý mạnh.
Tại sao vonfram và Molypden?
Điểm nóng chảy cao:
Cả vonfram và molypden đều có điểm nóng chảy rất cao, cho phép chúng chịu được nhiệt độ khắc nghiệt được tạo ra trong quá trình cấy ion.
Chống ăn mòn:
Chúng thể hiện khả năng chống ăn mòn tuyệt vời, điều này rất quan trọng khi tiếp xúc với các loại khí phản ứng và sản phẩm phụ của quá trình cấy ion.
Độ bền cao và độ dẫn nhiệt:
Những đặc tính này rất cần thiết để duy trì tính toàn vẹn cấu trúc của các bộ phận và tản nhiệt hiệu quả trong quá trình vận hành.
Độ tinh khiết cao:
Vật liệu có độ tinh khiết cao giảm thiểu ô nhiễm chùm ion và vật liệu cấy ghép.
Các thành phần cấy ion điển hình được làm bằng vonfram và Molypden:
Phòng:
Buồng chân không chứa nguồn ion và vùng mục tiêu thường được làm bằng vonfram, molypden hoặc hợp kim của chúng.
Sợi:
Trong các nguồn ion, các sợi làm từ hợp kim vonfram hoặc vonfram được sử dụng để tạo ra plasma từ đó các ion được tách ra.
Các khe cung:
Những thành phần này giúp định hình và định hướng chùm ion và thường được làm từ vonfram hoặc molypden.
Giá đỡ và Cathode:
Nhiều vật giữ và cực âm khác nhau trong nguồn ion và đường truyền tia được chế tạo từ các kim loại chịu lửa này.
Phụ tùng thay thế:
Các thành phần vonfram và molypden cũng được sử dụng cho nhiều phụ tùng thay thế khác nhau trong bộ cấy ghép.
Thành phần Beamline:
Các thành phần bên trong đường truyền tia, chẳng hạn như bộ giới hạn chùm tia và khẩu độ, cũng có thể được làm bằng vonfram hoặc molypden.
Ví dụ về các công ty cung cấp linh kiện cấy ion:
Tuy nhiên, Hợp kim nặng vonfram (WHA), đặc biệt là các chế phẩm W-Ni-Fe và W-Ni-Cu, được sử dụng rộng rãi trong các hệ thống cấy ion do mật độ đặc biệt, đặc tính che chắn bức xạ và độ ổn định nhiệt của chúng. Những hợp kim này lý tưởng cho các bộ phận đòi hỏi khối lượng lớn, độ bền và khả năng chống bắn phá ion.
Các thuộc tính chính cho ứng dụng cấy ion
✔ Mật độ cao (17-18,5 g/cm³) – Hiệu quả trong việc ngăn chặn sự tán xạ ion và cải thiện khả năng kiểm soát chùm tia.
✔ Che chắn bức xạ tuyệt vời – Giảm thiểu phát thải tia X và điện tử thứ cấp.
✔ Điểm nóng chảy cao và độ ổn định nhiệt – Chịu được sự bắn phá ion năng lượng cao- mà không bị biến dạng.
✔ Khả năng gia công tốt – Có thể được gia công chính xác-thành các hình dạng phức tạp (so với vonfram nguyên chất).
✔ Lượng khí thoát ra thấp – Rất quan trọng để duy trì điều kiện chân không cao trong máy cấy ion.
Các thành phần WHA phổ biến trong cấy ion
Nút chặn tia & khẩu độ – Điều khiển và định hình các chùm ion.
Cốc Faraday – Đo dòng tia ion một cách chính xác.
Khối che chắn & ống chuẩn trực – Giảm sự tán xạ ion không mong muốn.
Các bộ phận xử lý wafer – Các bộ phận bền để xử lý chất bán dẫn.
Linh kiện cách điện - Độ bền điện môi cao khi cần thiết.
Tại sao chọn WHA thay vì Vonfram nguyên chất?
Khả năng gia công tốt hơn (do pha kết dính Ni/Fe/Cu).
Độ bền gãy cao hơn (ít giòn hơn W nguyên chất).
Tiết kiệm chi phí-cho các hình học phức tạp.
Các lớp có sẵn và tùy chỉnh
Các lớp tiêu chuẩn: W90NiFe, W93NiFe, W95NiFe, W97NiFe
Thành phần & Kích thước tùy chỉnh (thanh, tấm, bộ phận gia công)
Bề mặt hoàn thiện: Được đánh bóng, nghiền hoặc phủ để nâng cao hiệu suất.
Nếu có bất kỳ thắc mắc nào, vui lòng liên hệ với chúng tôi: info@yitechtrading.com