Vật liệu phủ PVD
-
![Mục tiêu phún xạ 4N ZrO2 với tấm ốp Cu]()
Mục tiêu phún xạ 4N ZrO2 với tấm ốp CuMục tiêu phún xạ zirconi dioxide của chúng tôi có tấm nền được chế tạo bằng vật liệu zirconium dioxide có độ tinh khiết cao, được liên kết chắc chắn với tấm nền kim loại; thiết kế này đảm bảo tản...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ ZrC với tấm ốp Cu]()
Mục tiêu phún xạ ZrC với tấm ốp CuMục tiêu phún xạ Zirconium Carbide (ZrC) của chúng tôi có tấm nền bằng đồng tạo nên mối liên kết chắc chắn giữa vật liệu mục tiêu ZrC có độ tinh khiết cao và lớp nền bằng đồng. Thiết kế này đảm...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ ZrC pha tạp Ta 5at%]()
Mục tiêu phún xạ ZrC pha tạp Ta 5at%Việc pha tạp chính xác Zirconium Carbide với tỷ lệ 5% nguyên tử của Tantalum giúp tăng cường đáng kể khả năng chịu nhiệt-cao, khả năng chống sốc nhiệt và khả năng chống ăn mòn của vật liệu mục...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ IGZO 4N]()
Mục tiêu phún xạ IGZO 4NMục tiêu phún xạ IGZO 4N của chúng tôi mang lại hiệu suất phún xạ ổn định và hiệu quả hơn. Chuyên dùng cho-các ứng dụng bán dẫn và hiển thị cao cấp, chúng hỗ trợ hiện thực hóa khả năng di chuyển...Hơn -
![Mục tiêu 4N HfO2 với tấm ốp lưng Cu]()
Mục tiêu 4N HfO2 với tấm ốp lưng CuMục tiêu phún xạ 4N HfO₂ có lớp nền bằng đồng sử dụng vật liệu hafnium oxit có độ tinh khiết 99,99%. Được tích hợp với lớp nền bằng đồng, nó mang lại khả năng dẫn nhiệt tuyệt vời và lý tưởng cho...Hơn -
![4N HfO2 pha tạp với mục tiêu 2% Ti]()
4N HfO2 pha tạp với mục tiêu 2% TiMục tiêu phún xạ HfO₂ pha tạp 2% Ti- được chế tạo bằng cách sử dụng chất nền hafnium oxit có độ tinh khiết cao-, được pha tạp chính xác với 2% titan. Đặc trưng bởi tính đồng nhất về thành phần và...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ 4N HfO2]()
Mục tiêu phún xạ 4N HfO2Mục tiêu phún xạ Hafnium Dioxide có độ tinh khiết cao 4N-(Độ tinh khiết 99,99%)—thích hợp cho các ứng dụng trong lớp phủ quang học, chất bán dẫn và thiết bị điện tử chính xác. Có mật độ cao, thành...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ carbon 4N có thể tùy chỉnh]()
Mục tiêu phún xạ carbon 4N có thể tùy chỉnhMục tiêu phún xạ carbon 4N có độ tinh khiết cao- của chúng tôi được chế tạo từ vật liệu carbon nguyên chất 99,99%, có mức tạp chất thấp và khiến chúng trở nên lý tưởng cho các ứng dụng trong chất...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ B4C]()
Mục tiêu phún xạ B4CBằng cách sử dụng nguyên liệu thô cacbua boron có độ tinh khiết cao, sản phẩm này có độ cứng vượt trội và độ ổn định nhiệt cao, khiến sản phẩm trở nên lý tưởng cho các ứng dụng trong sản xuất chất...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ Boron tùy chỉnh]()
Mục tiêu phún xạ Boron tùy chỉnhChúng tôi cung cấp các mục tiêu boron dày đặc, có độ tinh khiết cao, hoàn toàn phù hợp cho các quy trình bán dẫn và lớp phủ. Chúng tôi hỗ trợ chế tạo theo yêu cầu dựa trên bản vẽ kỹ thuật, kiểm...Hơn -
![Mục tiêu vonfram tròn 3N5 tùy chỉnh]()
Mục tiêu vonfram tròn 3N5 tùy chỉnhChúng tôi cung cấp các mục tiêu vonfram tròn-được chế tạo tùy chỉnh với độ tinh khiết 3N5 (99,95%). Được sản xuất bằng phương pháp luyện kim bột, chúng có cấu trúc vi mô đồng nhất, mật độ cao và...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ Hf có độ tinh khiết cao tùy chỉnh]()
Mục tiêu phún xạ Hf có độ tinh khiết cao tùy chỉnhChúng tôi cung cấp các mục tiêu phún xạ hafnium có độ tinh khiết cao-được chế tạo-tùy chỉnh với độ tinh khiết trên 99,9%, có mật độ đồng đều và cấu trúc vi mô mịn. Được thiết kế đặc biệt cho chip...Hơn
Chúng tôi là nhà cung cấp vật liệu phủ pvd chuyên nghiệp tại Trung Quốc, chuyên cung cấp dịch vụ tùy chỉnh chất lượng cao. Chúng tôi nồng nhiệt chào đón bạn mua vật liệu phủ pvd giảm giá có sẵn tại đây và nhận mẫu miễn phí từ nhà máy của chúng tôi. Để được tư vấn giá, hãy liên hệ với chúng tôi.