Vật liệu phủ PVD

• Mục tiêu phun kẽm oxit (ZnO)

  Mục tiêu phun oxit kẽm (ZnO) được sử dụng cho quá trình lắng đọng hơi vật lý phun từ trường. Có nhiều đường kính, độ dày và độ tinh khiết khác nhau để phù hợp với tất cả các nhà sản xuất nguồn...

  Hơn
• Mục tiêu phun Magie Florua (MgF2)

  Magie florua là một loại muối tinh thể màu trắng và trong suốt trên một phạm vi rộng các bước sóng, với các ứng dụng thương mại trong quang học cũng được sử dụng trong kính viễn vọng không gian....

  Hơn
• Mục tiêu phun oxit coban liti (LiCoO2)

  Oxit lithium coban là một cấu trúc nhiều lớp, cung cấp một đường hầm hai chiều cho quá trình di chuyển ion lithium. Mục tiêu phun LiCoO2 là một vật liệu tuyệt vời để sản xuất pin vì hiệu suất điện...

  Hơn
• Mục tiêu phun Molypden Oxide (MoO3)

  Mục tiêu phún xạ oxit molypden có thể được sử dụng trong bán dẫn, lắng đọng hơi hóa học (CVD), lắng đọng hơi vật lý (PVD) và ứng dụng quang học. Chúng tôi là nhà cung cấp Mục tiêu phún xạ oxit...

  Hơn
• Mục tiêu phun oxit magiê (MgO)

  Magie oxit trong mục tiêu phun chủ yếu được phản ánh trong quá trình hình thành màng tốc độ cao, ứng dụng trong ngành công nghiệp vi điện tử và quang điện, các quy trình chuẩn bị cụ thể và các ứng...

  Hơn
• Mục tiêu phun Molypden Disulfide (MoS2)

  MoSi2 là cấu trúc tứ phương. Đây là pha trung gian có hàm lượng silic cao nhất trong hệ hợp kim nhị phân Mo-Si. Đây là hợp chất liên kim Dalton có thành phần cố định, màu xám và ánh kim.

  Hơn
• Mục tiêu phun Niobium Oxide (Nb2O5)

  Mục tiêu oxit niobi của chúng tôi được sản xuất bằng quy trình ép nóng chân không tiên tiến, ép đẳng tĩnh nóng, thiêu kết ép lạnh và phun nhiệt. Sản phẩm của chúng tôi bao gồm mục tiêu hình chữ...

  Hơn
• Mục tiêu phun oxit niken (NiO)

  Mục tiêu NiO là vật liệu được sử dụng trong các công nghệ phát triển màng mỏng như lắng đọng hơi vật lý (PVD) và lắng đọng hơi hóa học (CVD). Các công nghệ này đóng vai trò trung tâm trong sản...

  Hơn
• Mục tiêu phun phủ Silicon Carbide (SiC)

  Phần này thảo luận chi tiết về các đặc điểm cơ bản của mục tiêu silicon carbide, từ tính chất hóa học và vật lý, phương pháp chế tạo cho đến phân tích toàn diện các chỉ số đánh giá chất lượng,...

  Hơn
• Mục tiêu phun phủ Silic Monoxide (SiO)

  Silic monoxit là một hợp chất vô cơ có công thức hóa học là SiO. Nó là một loại bột vô định hình màu nâu đen đến màu hoàng thổ ở nhiệt độ phòng và áp suất.

  Hơn
• Mục tiêu phun oxit nhôm (Al2O3)

  Vật liệu mục tiêu oxit nhôm, vật liệu gốm có độ tinh khiết cao, mật độ cao này không chỉ có độ ổn định tuyệt vời mà còn có thể chịu được môi trường nhiệt độ khắc nghiệt. Nó đóng vai trò quan trọng...

  Hơn
• Mục tiêu phun phủ nhôm nitride (AlN)

  Mục tiêu phún xạ nhôm nitride còn được gọi là nhôm nitride có độ tinh khiết cao, vật liệu lắng đọng màng mỏng, mục tiêu công nghiệp bán dẫn, mục tiêu phún xạ AlN, vật liệu phún xạ gốm, lớp phủ...

  Hơn