Mục tiêu phun oxit niken (NiO)
Mục tiêu phun oxit niken (NiO)

Mục tiêu phun oxit niken (NiO)

Mục tiêu NiO là vật liệu được sử dụng trong các công nghệ phát triển màng mỏng như lắng đọng hơi vật lý (PVD) và lắng đọng hơi hóa học (CVD). Các công nghệ này đóng vai trò trung tâm trong sản xuất các thiết bị bán dẫn, thiết bị quang điện tử và nhiều loại màng hiệu suất cao.
Gửi yêu cầu
Mô tả sản phẩm

 

Mục tiêu NiO là vật liệu được sử dụng trong các công nghệ phát triển màng mỏng như lắng đọng hơi vật lý (PVD) và lắng đọng hơi hóa học (CVD). Các công nghệ này đóng vai trò trung tâm trong sản xuất các thiết bị bán dẫn, thiết bị quang điện tử và nhiều loại màng hiệu suất cao.

 

Các đặc tính chính của mục tiêu NiO bao gồm

 

Các tính chất chính của mục tiêu NiO bao gồm:

Độ tinh khiết: Độ tinh khiết của mục tiêu NiO ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng của màng lắng đọng cuối cùng. Vật liệu có độ tinh khiết cao có thể làm giảm sự xâm nhập của tạp chất và cải thiện các tính chất điện và quang của màng.

Cấu trúc tinh thể: Cấu trúc tinh thể quyết định tính chất điện và từ của NiO và ảnh hưởng đến độ dẫn điện và từ tính của vật liệu.

Tính chất điện: Vật liệu mục tiêu NiO có độ dẫn điện tốt và là chất dẫn điện tử và ion tuyệt vời.

Tính chất từ ​​tính: NiO thể hiện tính chất nghịch từ, điều này rất quan trọng trong một số tình huống ứng dụng nhất định.

 

Sự chỉ rõ

 

Vật liệu

Mục tiêu NiO

Sự tinh khiết

99.99%

Kích cỡ

Đường kính 1", "2", 3", 4" hoặc Tùy chỉnh

Mật độ tương đối

trên 80%

Hình dạng

Tròn, hình chữ nhật, dạng hạt hoặc tùy chỉnh

Công nghệ

Thiêu kết

Liên kết

Indi, Chất đàn hồi

Bề mặt

Đất

CA CAO

Sẽ được cung cấp qua email sau khi giao hàng

Phân tích

ICP-OES hoặc MSDS

 

Các lĩnh vực ứng dụng của mục tiêu NiO

 

1. Công nghệ lắng đọng màng mỏng

Màng mỏng từ tính: Mục tiêu NiO đóng vai trò quan trọng trong việc sản xuất màng mỏng từ tính. Những màng từ tính này được sử dụng rộng rãi trong lưu trữ dữ liệu, cảm biến từ tính và thiết bị spintronic. Mục tiêu NiO có thể cung cấp màng chất lượng cao với tính chất từ ​​tính tốt và độ ổn định nhiệt, đáp ứng các tiêu chuẩn cao về hiệu suất vật liệu cần thiết cho các ứng dụng này.

Màng mỏng quang điện: Các mục tiêu NiO cũng là vật liệu không thể thiếu để sản xuất màng mỏng quang điện. Các màng này được sử dụng trong các lĩnh vực như pin mặt trời, máy dò quang và công nghệ màn hình phẳng. Các đặc tính dẫn điện trong suốt tuyệt vời của NiO cải thiện đáng kể hiệu quả và hiệu suất của các thiết bị này.

Chất mang xúc tác: NiO target được sử dụng rộng rãi làm chất mang xúc tác do tính ổn định hóa học và hoạt động bề mặt độc đáo của nó. Trong quá trình xử lý môi trường và phản ứng hóa học, chất xúc tác NiO cho thấy hoạt động xúc tác hiệu quả và độ bền tốt, cung cấp hỗ trợ kỹ thuật quan trọng cho việc sản xuất năng lượng sạch và hóa chất.

 

2. Trường năng lượng mới

Pin mặt trời: Việc ứng dụng các mục tiêu NiO trong lĩnh vực pin mặt trời, đặc biệt là trong pin mặt trời perovskite và vật liệu quang điện linh hoạt, đã cho thấy những ưu điểm không thể thay thế của nó. Vật liệu mục tiêu NiO có thể được sử dụng làm lớp vận chuyển electron hoặc lớp vận chuyển lỗ trống để cải thiện hiệu quả hiệu suất chuyển đổi và độ ổn định của pin.

Pin lithium-ion: Trong lĩnh vực pin lithium-ion, các mục tiêu NiO được sử dụng để tạo ra vật liệu điện cực, đặc biệt là một phần của vật liệu catốt, giúp cải thiện mật độ năng lượng và tuổi thọ chu kỳ của pin. Độ tinh khiết cao và cấu trúc vi mô được tối ưu hóa của các mục tiêu NiO rất quan trọng để cải thiện hiệu suất của pin.

 

3. Công nghệ cảm biến

Ứng dụng mục tiêu NiO trong lĩnh vực công nghệ cảm biến chứng minh khả năng hỗ trợ các công nghệ tiên tiến. Đặc biệt trong cảm biến khí và cảm biến độ ẩm, vật liệu gốc NiO có thể cung cấp kết quả giám sát chính xác do độ nhạy cao và độ ổn định tuyệt vời, có ý nghĩa to lớn đối với giám sát môi trường, kiểm soát quy trình công nghiệp và giám sát sức khỏe và an toàn.

 

Chú phổ biến: mục tiêu phun niken oxit (nio), nhà cung cấp mục tiêu phun niken oxit (nio) Trung Quốc, nhà máy