Mục tiêu phun gốm
-
![Mục tiêu phún xạ 4N ZrO2 với tấm ốp Cu]()
Mục tiêu phún xạ 4N ZrO2 với tấm ốp CuMục tiêu phún xạ zirconi dioxide của chúng tôi có tấm nền được chế tạo bằng vật liệu zirconium dioxide có độ tinh khiết cao, được liên kết chắc chắn với tấm nền kim loại; thiết kế này đảm bảo tản...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ ZrC với tấm ốp Cu]()
Mục tiêu phún xạ ZrC với tấm ốp CuMục tiêu phún xạ Zirconium Carbide (ZrC) của chúng tôi có tấm nền bằng đồng tạo nên mối liên kết chắc chắn giữa vật liệu mục tiêu ZrC có độ tinh khiết cao và lớp nền bằng đồng. Thiết kế này đảm...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ ZrC pha tạp Ta 5at%]()
Mục tiêu phún xạ ZrC pha tạp Ta 5at%Việc pha tạp chính xác Zirconium Carbide với tỷ lệ 5% nguyên tử của Tantalum giúp tăng cường đáng kể khả năng chịu nhiệt-cao, khả năng chống sốc nhiệt và khả năng chống ăn mòn của vật liệu mục...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ IGZO 4N]()
Mục tiêu phún xạ IGZO 4NMục tiêu phún xạ IGZO 4N của chúng tôi mang lại hiệu suất phún xạ ổn định và hiệu quả hơn. Chuyên dùng cho-các ứng dụng bán dẫn và hiển thị cao cấp, chúng hỗ trợ hiện thực hóa khả năng di chuyển...Hơn -
![Mục tiêu 4N HfO2 với tấm ốp lưng Cu]()
Mục tiêu 4N HfO2 với tấm ốp lưng CuMục tiêu phún xạ 4N HfO₂ có lớp nền bằng đồng sử dụng vật liệu hafnium oxit có độ tinh khiết 99,99%. Được tích hợp với lớp nền bằng đồng, nó mang lại khả năng dẫn nhiệt tuyệt vời và lý tưởng cho...Hơn -
![4N HfO2 pha tạp với mục tiêu 2% Ti]()
4N HfO2 pha tạp với mục tiêu 2% TiMục tiêu phún xạ HfO₂ pha tạp 2% Ti- được chế tạo bằng cách sử dụng chất nền hafnium oxit có độ tinh khiết cao-, được pha tạp chính xác với 2% titan. Đặc trưng bởi tính đồng nhất về thành phần và...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ 4N HfO2]()
Mục tiêu phún xạ 4N HfO2Mục tiêu phún xạ Hafnium Dioxide có độ tinh khiết cao 4N-(Độ tinh khiết 99,99%)—thích hợp cho các ứng dụng trong lớp phủ quang học, chất bán dẫn và thiết bị điện tử chính xác. Có mật độ cao, thành...Hơn -
![Mục tiêu phún xạ B4C]()
Mục tiêu phún xạ B4CBằng cách sử dụng nguyên liệu thô cacbua boron có độ tinh khiết cao, sản phẩm này có độ cứng vượt trội và độ ổn định nhiệt cao, khiến sản phẩm trở nên lý tưởng cho các ứng dụng trong sản xuất chất...Hơn -
![Các hạt HfC tùy chỉnh]()
Các hạt HfC tùy chỉnhMô tả các hạt HfC tùy chỉnh Các hạt HfC thường được tổng hợp bằng cách phản ứng hafnium dioxide (HfO₂) với carbon ở nhiệt độ cao (1900–2300 độ) trong môi trường trơ hoặc khử. Cốt lõi của việc...Hơn -
![Mục tiêu phun oxit thiếc (SnO2)]()
Mục tiêu phun oxit thiếc (SnO2)Thiếc oxit (SnO2) là một vật liệu vô cơ phi kim loại quan trọng. Do tính chất vật lý và hóa học độc đáo của nó, nó đóng vai trò quan trọng trong nhiều lĩnh vực công nghệ cao. Các đặc điểm chính...Hơn -
![Mục tiêu phun Tantalum Oxide (Ta2O5)]()
Mục tiêu phun Tantalum Oxide (Ta2O5)Mục tiêu phun phủ oxit tantalum có thể được sử dụng trong bán dẫn, lắng đọng hơi hóa học (CVD), lắng đọng hơi vật lý (PVD) và ứng dụng quang học. Chúng tôi là nhà cung cấp Mục tiêu phun phủ oxit...Hơn -
![Mục tiêu phun phủ oxit titan (TiO2)]()
Mục tiêu phun phủ oxit titan (TiO2)Titan dioxit (TiO2) là chất màu trắng được sử dụng rộng rãi nhất, ví dụ như trong sơn. Nó có độ sáng cao và chỉ số khúc xạ rất cao (2,609 đối với rutil).Hơn
Chúng tôi là nhà cung cấp mục tiêu phun gốm chuyên nghiệp tại Trung Quốc, chuyên cung cấp dịch vụ tùy chỉnh chất lượng cao. Chúng tôi nồng nhiệt chào đón bạn mua mục tiêu phun gốm giảm giá có sẵn tại đây và nhận mẫu miễn phí từ nhà máy của chúng tôi. Để được tư vấn giá, hãy liên hệ với chúng tôi.