Mục tiêu phun gốm

  • Boron (B) Mục tiêu phun
    Mục tiêu phun Boron có cùng tính chất với Boron. Boron là một nguyên tố hóa học có nguồn gốc từ tiếng Ả Rập 'buraq', là tên gọi của borax. "B" là ký hiệu hóa học chuẩn của Boron. Sự phong phú của...
    Hơn
  • Mục tiêu phun phủ nhôm kẽm oxit (AZO)
    Mục tiêu AZO, tên đầy đủ là mục tiêu nhôm oxit kẽm, là một vật liệu bán dẫn pha tạp đặc biệt. Cụ thể, nó là một vật liệu tổng hợp bao gồm kẽm oxit (ZnO) và nhôm (Al), thường được biểu thị là...
    Hơn
  • Mục tiêu phun Bari Titanat (BaTiO3)
    Bari titanat là một chất rắn kết tinh được sử dụng trong các ứng dụng quang điện tử và làm gốm điện môi trong tụ điện với giá trị hằng số điện môi cao tới 7,000. Bari titanat đa tinh thể có hệ số...
    Hơn
  • Mục tiêu phun Boron Nitride (BN)
    Bo nitride (BN) là một tinh thể bao gồm các nguyên tử nitơ và nguyên tử bo. Nó thường có màu đen, nâu hoặc đỏ sẫm. Nó có cấu trúc sphalerite, độ dẫn nhiệt tốt và độ cứng chỉ đứng sau kim cương. Nó...
    Hơn
  • Mục tiêu phun Boron Carbide (B4C)
    Bo cacbua: Được phát hiện vào thế kỷ 19 như một sản phẩm phụ của quá trình nghiên cứu borua kim loại và không được nghiên cứu khoa học cho đến những năm 1830. Đây là chất cứng thứ năm được biết...
    Hơn
  • Mục tiêu phun xạ Cerium Oxide (CeO2)
    Xeri oxit là một chất vô cơ có công thức hóa học là CeO2, bột màu vàng nhạt hoặc vàng nâu. Tỷ trọng 7,13g/cm3, điểm nóng chảy 2397 độ, không tan trong nước và kiềm, tan ít trong axit. Ở 2000 độ và...
    Hơn
  • Mục tiêu phun Hafni Oxide (HfO2)
    Zirconia (ZrO2), còn được gọi là zirconium dioxide, là một vật liệu gốm hiệu suất cao rất quan trọng. Do có điểm nóng chảy cao, độ bền uốn cao và độ ổn định hóa học, nó được sử dụng rộng rãi trong...
    Hơn
  • Mục tiêu phun Indium Oxide (In2O3)
    Indium oxide là một oxit có công thức phân tử là In2O3. Sản phẩm tinh khiết là bột vô định hình màu trắng hoặc vàng nhạt, chuyển sang màu nâu đỏ khi đun nóng. Indium oxide là vật liệu chức năng...
    Hơn
  • Mục tiêu phun oxit thiếc indium (ITO)
    Vật liệu mục tiêu ITO, Indium Tin Oxide, là một vật liệu dẫn điện trong suốt quan trọng. Trong lĩnh vực chế tạo màng mỏng, mục tiêu ITO được sử dụng rộng rãi như một nguyên liệu thô cơ bản trong...
    Hơn
  • Mục tiêu phun phủ oxit silic (SiO2)
    Silicon dioxide, là một vật liệu được sử dụng rộng rãi trong công nghệ hiện đại, đã nhận được sự chú ý rộng rãi do các tính chất vật lý và hóa học tuyệt vời của nó. Đặc biệt trong công nghệ phún...
    Hơn
  • Mục tiêu phun Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO)
    Chúng tôi xử lý Mục tiêu phun Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO) với chất lượng cao và giá cả cạnh tranh. Mục tiêu phun IGZO, tên đầy đủ là mục tiêu indium gallium zinc oxide, chứa bốn nguyên tố:...
    Hơn
  • Mục tiêu phun phủ Silic Nitride (Si3N4)
    Mục tiêu phun phủ silicon nitride là một loại mục tiêu phun phủ gốm nitride. Si3N4 là vật liệu gốm có điểm nóng chảy cao, cực kỳ cứng và tương đối trơ về mặt hóa học. Si3N4 được chế tạo bằng cách...
    Hơn

Chúng tôi là nhà cung cấp mục tiêu phun gốm chuyên nghiệp tại Trung Quốc, chuyên cung cấp dịch vụ tùy chỉnh chất lượng cao. Chúng tôi nồng nhiệt chào đón bạn mua mục tiêu phun gốm giảm giá có sẵn tại đây và nhận mẫu miễn phí từ nhà máy của chúng tôi. Để được tư vấn giá, hãy liên hệ với chúng tôi.