Mô tả sản phẩm
Silicon dioxide, là một vật liệu được sử dụng rộng rãi trong công nghệ hiện đại, đã nhận được sự chú ý rộng rãi do các tính chất vật lý và hóa học tuyệt vời của nó. Đặc biệt trong công nghệ phún xạ magnetron, việc ứng dụng các mục tiêu silicon dioxide không chỉ cải thiện hiệu suất của vật liệu màng mỏng mà còn thúc đẩy tiến bộ công nghệ trong các lĩnh vực như vi điện tử và quang điện tử.
Các tính chất vật lý và hóa học
Cách điện: Silic dioxit có khả năng cách điện cao, là vật liệu lý tưởng để chế tạo lớp cách điện cho các thiết bị điện tử và quang điện tử.
Độ ổn định hóa học: Có khả năng chịu đựng tuyệt vời với hầu hết các chất hóa học và có thể duy trì độ ổn định trong môi trường khắc nghiệt, điều này rất quan trọng để cải thiện độ tin cậy và tuổi thọ của thiết bị.
Độ trong suốt quang học: Silic dioxide có độ trong suốt tốt trong vùng ánh sáng khả kiến và một phần tia cực tím, thích hợp làm lớp chống phản xạ và lớp bảo vệ cho các thành phần quang học.
Lý do chọn silicon làm vật liệu mục tiêu
1. Chuẩn bị màng chất lượng cao: Silicon dioxide có thể tạo ra màng chất lượng cao, đồng đều và dày đặc thông qua công nghệ phun magnetron, đáp ứng nhu cầu của các ứng dụng cao cấp.
2. Khả năng ứng dụng rộng rãi: Nhờ các tính chất vật lý và hóa học tuyệt vời, màng mỏng silica có thể đóng vai trò trong nhiều lĩnh vực như vi điện tử, quang điện tử và lớp phủ bảo vệ.
3. Thân thiện với môi trường: So với các vật liệu khác, quá trình chế biến và sử dụng silica ít tác động đến môi trường hơn, phù hợp với xu hướng sản xuất xanh và phát triển bền vững hiện nay.
Sự chỉ rõ
|
Sản phẩm: |
Mục tiêu phun phủ SiO2 silicon dioxide |
|
Độ tinh khiết: |
4N, 5N |
|
Kích cỡ: |
tùy chỉnh |
|
Hình dạng: |
tròn hoặc hình chữ nhật |
|
Công nghệ: |
HÔNG |
|
Ứng dụng: |
ngành công nghiệp phủ pvd |
|
Đóng gói: |
đóng gói chân không, thùng carton xuất khẩu hoặc hộp gỗ bên ngoài |
Chú phổ biến: mục tiêu phun oxit silic (sio2), nhà cung cấp mục tiêu phun oxit silic (sio2) Trung Quốc, nhà máy
