Mô tả sản phẩm
Mục tiêu phun tantalum chủ yếu được ứng dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn và ngành công nghiệp phủ quang học. Chúng tôi sản xuất nhiều thông số kỹ thuật khác nhau của mục tiêu phun tantalum theo yêu cầu của khách hàng từ ngành công nghiệp bán dẫn và ngành công nghiệp quang học thông qua phương pháp nấu chảy lò chân không EB. Chúng tôi sản xuất các kích thước khác nhau của mục tiêu phun tantalum như mục tiêu đĩa, mục tiêu hình chữ nhật và mục tiêu quay.
Đặc điểm kỹ thuật
Chúng tôi sản xuất các mục tiêu R05200, R05400 đáp ứng tiêu chuẩn ASTM B708 và chúng tôi có thể làm mục tiêu theo bản vẽ bạn cung cấp. Tận dụng lợi thế của thỏi tantalum chất lượng cao, thiết bị tiên tiến, công nghệ tiên tiến, đội ngũ chuyên nghiệp, chúng tôi đã thiết kế riêng các mục tiêu phun theo yêu cầu của bạn.
Đặc trưng
Thanh Tanatlum, Độ tinh khiết 99,95% 99,95%, ASTM B365-98
Cấp độ: RO5200, RO5400
Tiêu chuẩn sản xuất: ASTM B365-98
Đặc điểm kỹ thuật
Tạp chất kim loại, ppm tối đa theo trọng lượng, Cân - Tantalum
|
Yếu tố |
Fe |
Tôi |
Lưu ý |
Ni |
Si |
Tí |
W |
|
Nội dung |
100 |
200 |
1000 |
100 |
50 |
100 |
50 |
Tính chất cơ học
|
Đường kính (mm) |
Φ3.18-63.5 |
|
Độ bền kéo cực đại (MPa) |
172 |
|
Giới hạn chảy (MPa) |
103 |
|
Độ giãn dài (%, 1-theo chiều dài đo) |
25 |
Chú phổ biến: đĩa mục tiêu phun tantalum, nhà cung cấp đĩa mục tiêu phun tantalum Trung Quốc, nhà máy
