Titanium Silicon Sputtering Target

Titanium Silicon Sputtering Target

Mục tiêu gõ silicon Titanium có thể cung cấp các lớp vật liệu cứng nitride với các đặc tính tuyệt vời, bởi vì silicon đảm bảo khả năng chống oxy hóa cao, trong khi Titanium cung cấp độ cứng đặc biệt và khả năng chống mài mòn. Sự kết hợp của hai yếu tố này có thể được sử dụng ở nhiệt độ rất cao, đáy có khả năng chống mài mòn.

Mục tiêu phóng xạ Silicon Titanium là mục tiêu hợp kim được sử dụng rất phổ biến trong công nghệ phun Magnetron, có thể được thực hiện thành các mục tiêu hình đĩa, hình ống và hình tấm bằng cách đúc quá trình. Mục đích chính của nó là phủ các khuôn và dụng cụ với lớp phủ cứng và chống hao mòn, có thể cải thiện hiệu quả làm việc và kéo dài tuổi thọ của các công cụ xử lý.

Titanium Silicon Sputtering Target có các đặc điểm của sức mạnh cơ học cao, khả năng chống mài mòn tốt, khả năng chống ăn mòn mạnh và khả năng chống va đập tốt, phù hợp với lớp phủ kính ô tô, công nghiệp lớp phủ hiển thị, ngành công nghiệp bán dẫn, kỹ thuật điện tử, công nghiệp chế biến kim loại và trang trí, v.v.

Đặc điểm kỹ thuật của mục tiêu phun silicon titan

Câu hỏi thường gặp:

MOQ là gì?
A: Phụ thuộc vào số lượng, nói chung, không có giới hạn MOQ.

Làm thế nào để trả tiền cho nó?
A: Một chuyển khoản ngân hàng (T\/T) sẽ được chấp nhận.

Thời gian giao hàng là bao nhiêu?
A: Xung quanh 7-20 ngày phụ thuộc vào số lượng và sản xuất.

Gói là gì?
A: Trường hợp hoạt hình hoặc vỏ gỗ dán.

Thời gian dẫn đầu là gì?
A: Từ đơn đặt hàng được đặt đến nhận hàng sẽ mất khoảng 10-25 ngày.

Phương thức giao hàng là gì?
A: Nói chung, chúng tôi gửi hàng hóa theo UPS, DHL hoặc FedEx. Ngoài ra, chúng tôi có thể gửi bằng đường biển đến cảng biển hoặc bằng đường hàng không đến sân bay gần nhất.

Hình ảnh mục tiêu phóng xạ silicon titan

Chú phổ biến: Titanium Silicon Sputtering Target, China Titanium Silicon Sputtering Target Nhà cung cấp, nhà máy