Mục tiêu phun Lithium Cobaltate (LiCoO2)

Phun phủ là công nghệ đã được chứng minh có khả năng lắng đọng các lớp màng mỏng từ nhiều loại vật liệu khác nhau lên nhiều hình dạng và kích thước chất nền khác nhau.
Quá trình với các mục tiêu phun có thể lặp lại và có thể được mở rộng từ các dự án nghiên cứu và phát triển nhỏ. Các quá trình với phun
mục tiêu có thể được điều chỉnh cho các lô sản xuất liên quan đến diện tích nền trung bình đến lớn. Phản ứng hóa học có thể xảy ra trên mục tiêu
bề mặt, trong khi bay hoặc trên chất nền tùy thuộc vào các thông số quy trình. Nhiều thông số làm cho lắng đọng phun trở thành một quy trình phức tạp nhưng cho phép các chuyên gia kiểm soát được mức độ phát triển và cấu trúc vi mô của khu vực.

Mục tiêu phun được sử dụng để lắng đọng màng. Sự lắng đọng được thực hiện bởi mục tiêu phun là phương pháp lắng đọng màng mỏng bằng cách phun liên quan đến việc xói mòn vật liệu từ nguồn "mục tiêu" lên "chất nền" như tấm wafer silicon.

Mục tiêu phun bán dẫn được sử dụng để khắc mục tiêu. Khắc phun được lựa chọn trong trường hợp cần độ dị hướng khắc cao và tính chọn lọc không phải là vấn đề đáng quan tâm. Mục tiêu phun cũng được sử dụng để phân tích bằng cách khắc vật liệu mục tiêu.

Chú phổ biến: mục tiêu phun lithium cobaltate (licoo2), nhà cung cấp mục tiêu phun lithium cobaltate (licoo2) của Trung Quốc, nhà máy