Mục tiêu phun Indium (In)

Mục tiêu phun indium là mục tiêu màu xám bóng bạc được tạo thành từ indium tinh khiết cao (In). Điểm nóng chảy của nó là 156,61 độ, điểm sôi là 2060 độ và mật độ là 7,3 g/cm3. Kết cấu rất mềm, có thể khía bằng đinh, có tính dẻo mạnh, dễ uốn, có thể ép thành tấm và là kim loại dễ nóng chảy.

Gửi yêu cầu

Mô tả sản phẩm

Mục tiêu phun indium là một mục tiêu màu xám bóng bạc bao gồm indium tinh khiết cao (In). Điểm nóng chảy của nó là 156,61 độ, điểm sôi là 2060 độ và mật độ là 7,3 g/cm3. Kết cấu rất mềm, có thể khía bằng đinh, có tính dẻo mạnh, dễ uốn, có thể ép thành tấm và là kim loại dễ nóng chảy. Một trong những đặc điểm nổi bật của nó là khả năng bám dính vào kính và các bề mặt tương tự khác. Các hợp chất indium bốc hơi trong điều kiện chân không để tạo thành màng mỏng trong quá trình sản xuất các sản phẩm điện tử và pin quang điện. Indium tinh khiết được sử dụng làm lớp màng mỏng trong chất bán dẫn.

Quy trình sản xuất mục tiêu phun indi

Chuẩn bị-Nấu chảy-Phân tích hóa học-Rèn-Cán-Ủ-Kiểm tra kim loại-Gia công-Kiểm tra kích thước-Vệ sinh-Kiểm tra cuối cùng-Đóng gói

Ứng dụng của mục tiêu phun indium

Mục tiêu phun indium được sử dụng để phủ ổ trục của động cơ tốc độ cao vì nó có thể phân phối đều chất bôi trơn. Mục tiêu indium cũng được sử dụng trong lắng đọng màng mỏng, trang trí, chất bán dẫn, màn hình, thiết bị LED và quang điện, lớp phủ chức năng và các ngành công nghiệp không gian lưu trữ thông tin quang học khác, ngành công nghiệp phủ kính như kính ô tô và kính kiến trúc và truyền thông quang học.

Indium cũng được sử dụng để chế tạo các thành phần điện khác như bộ chỉnh lưu, nhiệt điện trở và quang dẫn. Indium có thể được sử dụng để chế tạo gương có cùng độ phản xạ như gương bạc nhưng không bị phai màu. Indium cũng được sử dụng để chế tạo hợp kim có điểm nóng chảy thấp. Hợp kim gồm 24% indium và 76% gali ở dạng lỏng ở nhiệt độ phòng.