Mục tiêu tăng thuần khiết TI

Mục tiêu phun Pure Ti có độ tinh khiết cao, đánh bóng bề mặt tốt, độ dẫn điện và nhiệt tốt, khả năng chống va đập tốt, hao mòn tốt và khả năng chống ăn mòn, độ bền kéo cao, độ dẻo tốt.

Gửi yêu cầu

So với các mục tiêu khác, các mục tiêu kim loại có nhu cầu thị trường cao hơn các mục tiêu gốm, hiệu suất của chúng cao hơn và tuổi thọ của dịch vụ dài hơn. Đối với mục tiêu phóng xạ, độ tinh khiết hóa học của kim loại càng cao, độ dẫn và điện trở hao mòn của màng được làm từ nó càng cao.

Ứng dụng của mục tiêu tăng tốc TI thuần túy

1. Vật liệu lớp phủ

2. Vật liệu cấy ghép sinh học

3. Vật liệu getter: Titanium có khả năng hấp phụ mạnh đối với các loại khí hoạt động và có thể được sử dụng trong các hệ thống bơm chân không siêu cao và bơm ion phun

4. Tài liệu thông tin điện tử công nghệ cao: Tiêu thụ titan tinh khiết cao cho các mạch tích hợp và màn hình bảng phẳng đã tăng lên

Đặc điểm kỹ thuật của mục tiêu phóng xạ Ti thuần túy

Cấp	Lớp 1, Lớp 2
Kỹ thuật	Thiêu kết, rèn, ủ, lăn, chân không tan chảy, gia công
Sự thuần khiết	99.9%-99.995%
Đường kính	<350mm
Độ dày	1-100 mm
Kích thước cho thanh	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm)
Kích thước cho ống	Ống (mục tiêu quay vòng, OD: 20 mm -160 mm, độ dày: 2-20 mm)
Tỉ trọng	4,5g\/cm3
Bề mặt	Đánh bóng, sáng, làm sạch hóa học, oxit đen, vv.
Hình dạng	Đĩa, tấm, hình chữ nhật, hình vuông, mục tiêu cột,
Tiêu chuẩn	ASTM B385, GB, Jis